Razlike između isparenog silicijum-dioksida i precipitiranog silicijum-dioksida
Ispareni silicijum i istaloženi silicijum pokazuju značajne razlike u sirovinama, proizvodnim procesima, fizičkim svojstvima, hemijskim svojstvima i primenama. Ispod je detaljna analiza ovih razlika:
1. Sirovine i proizvodni proces
Ispareni silicijum:
Sirovine:Obično se dobija iz izvora silicijum dioksida kao što je silikon tetrahlorid (SiCl₄) ili silan (SiH₄).
Proces:U okruženjima s visokim temperaturama, plinovi izvora silikona reagiraju s kisikom ili amonijakom, formirajući silikonske čestice. Ove čestice se hlade i sakupljaju u atmosferi inertnog gasa da bi se proizveo ispareni silicijum dioksid.
Precipitirani silicijum:
Sirovine:Dobije se od rastvora natrijum silikata.
Proces:U rastvor natrijum silikata se dodaju kiseli ili alkalni rastvori, uzrokujući taloženje silicijum dioksida. Precipitat silicijum dioksida se zatim filtrira, ispere, osuši i kalcinira da se dobije istaloženi silicijum dioksid.
2. Fizička svojstva
Prozirnost i boja:Ispareni silicijum dioksid je generalno providan, dok je istaloženi silicijum obično neproziran bele boje.
Veličina i oblik čestica:Ispareni silicijum ima manje veličine čestica, obično na nanoskali, a čestice su sferične ili skoro sferične, sa finoćom većom od 1000 mesh. Precipitirane čestice silicijum dioksida su veće, obično na mikroskali, nepravilnih oblika i finoće u rasponu od 300-400 mesh.
Zatezne performanse:Ispareni silicijum pokazuje veću čvrstoću na kidanje i izduženje, otporan je na lako kidanje i ne bijeli pod naponom. Nasuprot tome, istaloženi silicijum izbeljuje pod naponom i ima manje izduženje.
3. Hemijska svojstva
Čistoća i hemijska stabilnost:Zbog uslova visoke temperature i inertnog gasa tokom proizvodnje, ispareni silicijum ima veću čistoću i veoma nizak sadržaj nečistoća, pružajući odličnu hemijsku stabilnost. Precipitirani silicijum, iako hemijski stabilan, ima relativno nižu čistoću i može sadržati nečistoće koje se unose tokom proizvodnje.
4. Prijave
Ispareni silicijum:
Njegova visoka specifična površina, vrhunska čistoća i hemijska stabilnost čine ga idealnim za vrhunske aplikacije. Primjeri uključuju:
Podrška za katalizator.
Adsorbenti visokih performansi.
Napredna proizvodnja elektronskih i optičkih materijala.
Zaptivke za lonce pod visokim pritiskom, silikonske žice i proizvodi koji zahtevaju veliku čvrstoću na kidanje.
Precipitirani silicijum:
Zbog svoje isplativosti i svestranosti, precipitirani silicijum se široko koristi u raznim primenama, kao što su:
Sredstva za sušenje.
Punila za gumu i plastiku.
Sredstva protiv zgrušavanja i aditivi za kontrolu reologije u prehrambenoj industriji.
Komponente kao što su dugmad na daljinskom upravljaču, telefonske tastature i jastučići za stopala, gdje je potrebna visoka otpornost na udar.